鉭及鉭合金靶材

發(fā)布時(shí)間：

2013-11-07 11:52:38

鉭的熔點(diǎn)2996℃,密度16 68g cm3,導(dǎo)熱系數(shù)(25℃):54(W M K),鉭具有高導(dǎo)電性、高熱穩(wěn)定性和對(duì)外來(lái)原子的阻擋作用，故用賤射鍍膜法在集成電路上鍍上鉭膜，可防止銅向基體硅中擴(kuò)散。鉭靶材主要用于半導(dǎo)體及光學(xué)領(lǐng)域。我公司的鉭靶材采用EB電子轟擊制備的鉭錠,通過(guò)軋制和退火工藝結(jié)合的方法生產(chǎn)而成。該方法生產(chǎn)的靶材具有良好的內(nèi)部結(jié)構(gòu)、均勻的結(jié)晶組織、織構(gòu)以及能量分布。目前產(chǎn)品遠(yuǎn)銷到日本、韓國(guó)、臺(tái)灣、美國(guó)等國(guó)家和地區(qū)。

產(chǎn)品：鉭靶材、鉭鎢合金靶材、鉭鈮合金靶材

鉭靶材純度： 3N5、4N及4N5三種級(jí)別
　　
其他指標(biāo)可以根據(jù)客戶要求組織生產(chǎn)

產(chǎn)品厚度： > 3.50mm

產(chǎn)品寬度： < 600mm

產(chǎn)品長(zhǎng)度： < 1500mm

注：需方如有特殊要求，供需雙方可協(xié)商確定。

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